Prof. Dr. Carsten Westphal

„Meine Arbeitsgruppe untersucht strukturelle und elektronische Eigenschaften von dünnen Schichtsystemen auf Metall- und Halbleiteroberflächen sowie innere Grenzflächen mit Hilfe von Elektronenstreuexperimenten auf atomarer Skala. Durch verschiedene Präparationsmethoden stellen wir Schichtsysteme und niedrigdimensionale Strukturen her. Bei solchen Systemen ist die atomare und die elektronische Struktur des Systems sehr sensitiv auf kleinste Veränderungen, wie beispielsweise die Variation der Schichtdicke, welche wir bis zu einem Bruchteil einer atomaren Lage genau kontrollieren können. An dem universitätseigenen 1,5 GeV-Elektronenspeicherring DELTA betreiben wir eine eigene Strahllinie zur Nutzung weicher Röntgenstrahlung. Die dort angeschlossene UHV-Experimentierkammer kann beispielsweise zur Durchführung von hochaufgelösten XPS- und XPD-Messungen genutzt werden. Gegenwärtig wird diese Apparatur um eine Heliumkühlung auf 10 K erweitert. Neben der Röntgenstrahlung wird auch UV-Strahlung für UPS- und ARPES-Messungen genutzt. Komplementär zur Spektroskopie benutzen wir ein Tunnelmikroskop zur Analyse der Topographie von Oberflächen, unterstützt von LEED- und PEEM-Untersuchungen.“

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